Общество

"МашТех" рассказал о карьере русского "шпиона" в нидерландской ASML

"МашТех" рассказал о карьере русского "шпиона" в нидерландской ASML
"МашТех" рассказал о карьере русского "шпиона" в нидерландской ASML

Телеграм-канал "МашТех" привёл подробности работы русского "шпиона" в нидерландской компании ASML. Считается, что сотрудник по имени Герман А. похитил технологии для техпроцесса 28 нм и передал их в Россию.

Следователи выяснили, что он получил 105 внутренних документов от ASML и 88 файлов, связанных с тайваньским TSMC. Они не содержали полных чертежей для создания литографа, но могли помочь в настройке базовой полупроводниковой линии, способной производить чипы по технологическому процессу с топологией 28 нм.

"Также наш слон связан с попыткой приобрести инструмент для химического осаждения из паровой фазы. Однако, оборудование перенаправили в Израиль и до России оно так и не доехало", – добавляет "МашТех".

В 2008 и 2009 годах "шпион" стажировался в Imec, исследовательском центре в Бельгии, затем присоединился к греческому исследовательскому институту NCSR, а после начал работать на Fab 1 (дрезденское предприятие GlobalFoundries). В 2015 году он присоединился к голландскому стартапу Mapper, который разработал технологию безмасочной литографии на основе массивно-параллельной электронной записи. В конце 2018 года ASML поглотила активы компании и Герман оказался среди сотни инженеров, которые "переехали" в ASML.

Его имя фигурирует в четырех патентных заявках, связанных с ASML, последняя из которых была опубликована всего месяц назад. В январе 2022 года Герман присоединился к NXP в Неймегене по временному контракту в качестве технического специалиста по процессам, а в 2023 году уже работал в Делфтском техническом университете.

Следователи считают, что он поделился похищенными данными через облачное хранилище и приложения для обмена сообщениями, а также передал USB-накопитель в Москву, предположительно заработав при этом около 40 тысяч евро. В августе 2024 года Герман А. был взят под стражу, ему грозит от 18 до 32 месяцев тюремного заключения.

Как сообщал Ruposters, недавно в России создали первый в стране фотолитограф с разрешением 350 нм. Благодаря зеленоградским разработчикам наша страна теперь входит в "клуб" из десятка государств, которые способны сами создавать оборудование для производства микросхем.