В Москве создали первый в стране фотолитограф с разрешением 350 нм, объявил мэр Сергей Собянин. Россия теперь входит в "клуб" из десятка стран, которые способны сами создавать оборудование для производства микросхем.
Как уточнил градоначальник, партнёром выступил белорусский завод, имеющий большой опыт в этой сфере. Российско-белорусская установка отличается от аналогов использованием узкоспектрального твердотельного лазера вместо ртутной лампы в качестве источника излучения.
"Сделали важнейший шаг к переходу на собственное производство микроэлектроники и полной технологической независимости государства", – подытожил градоначальник.
На новый фотолитограф уже есть заказчик и сейчас устройство адаптируют под его технологические требования. Кроме того, те же разработчики создают новую модель с разрешением 130 нм. Планируется, что работы по ней будут завершены в 2026 году.
Ранее Ruposters писал, что промышленность Москвы переживает второе рождение – в городе за 14 лет открыли 290 новых промышленных объектов общей площадью 3 млн м², из них 270 млн м² ввели в эксплуатацию в 2024 году.
