В России потратят миллиарды рублей на создание собственного фотолитографического оборудования. Точнее говоря, на полигоны, которые на год сократят сроки его разработки, решив проблему отладки и тестирования.
Как отмечает телеграм-канал "МашТех", фотолитографы, как и литографы других типов, необходимы для производства чипов, микросхем и прочей полупроводниковой продукции для микроэлектроники. Сейчас именно в этой сфере наша страна отстает от Запада на 20 лет.
Минпромторг, Минобрнауки, производители полупроводников и профильные вузы планируют создать целую сеть полигонов для тестирования оборудования, каждый из которых обойдется примерно в 5 млрд рублей.
Так, например, реконструируют завод "Протон" Московского института электронной техники (МИЭТ), который сейчас, помимо прочего, уже занимается производством и монтажом печатных плат. Делают это в "Протоне", разумеется, пока на иностранном оборудовании.
В МИЭТ полигон запустят осенью 2026 года, но он будет далеко не единственной площадкой нового проекта. Еще одна появится в Петербурге, на базе фрязинского АО "НПП "Исток" имени А. И. Шокина". Там на одну только инженерную инфраструктуру потратят около 1,7 млрд рублей.
Минпромторг также готов заплатить суммарно до 9,2 млрд рублей исполнителям пяти ОКР, связанных с созданием технологий и промышленных установок для выпуска микросхем. О планах разработать литографическое оборудование заявляли и в "Ростелекоме".
