После 2026 года в России должно стартовать производство отечественных эксимерных лазеров для литографии. По словам замминистра промышленности Василия Шпака, который и анонсировал новое производство, это приблизит Россию к созданию литографов на 130 нм. Как уточняет телеграм-канал "МашТех", параллельно разрабатываются материалы и проводятся работы по установкам 90 нм и 65 нм.
Уже построены опытные образцы эксимерного лазера, разработанного в группе компаний "Лассард". В следующем году пройдут интенсивные испытания, которыми займутся сотрудники "Зеленоградского нанотехнологического центра" (ЗНТЦ), а ещё через год планируется начать малосерийное производство – от 5 образцов в год.
Лазеры собираются использовать в составе литографа, изначально рассчитанного на топологию 350 нм. Благодаря обновлению оборудование сможет выпускать чипы с топологией до 130 нм. Это не передовой уровень – показатель в 350 нм мировые компании-производители достигли в середине 1990-х, а 130 нм – в 2001 году, однако подобные чипы даже сейчас применяются во многих отраслях, в том числе в автопроме, энергетике и телекоме.
Как сообщал Ruposters, расходы средних и крупных российских компаний на научно-исследовательские и опытно-конструкторские работы продемонстрировали рост за предыдущие три года.
