В России разработали "дорожную карту" по созданию литографа, который должен обойтись дешевле аналога от ASML – нидерландской компании, считающейся мировым лидером в этой сфере. Институт физики микроструктур Российской академии наук предлагает уменьшить рабочую длины волны с 13,5 до 11,2 нм, что снизит затраты на изготовление вакуумных элементов и систем, и литографа в целом, так повляет и на стоимость эксплуатации.
Как сообщает телеграм-канал "МашТех", ссылаясь на ИФМ РАН, с экономической точки зрения повторять проект ASML для России бессмысленно. Уменьшение длины волны приведёт к увеличению разрешающей способности установки на 20%, это позволит уменьшить габаритные размеры и существенно упростить изготовление зеркал, серьёзно удешевить производство объектива. Помимо этого планируется заменить оловянный лазерно-плазменный источник на ксеноновый.
При средней мощности лазера 3,6 кВт ожидаемая производительность на длине волны 11,2 нм будет меньше примерно в 2,7 раза, чем у ASML-литографа. Но для фабрик, у которых рынок продукции меньше, чем у 5-топ компаний, этой величины вполне достаточно. Реализовывать концепцию предлагают в три этапа – на втором появится литограф с производительностью 60 пластин 200 мм в час, а на третьем – с производительностью 60 пластин 300 мм в час.
Ранее Ruposters писал, что в 2025 году российские промышленники замедлят инвестиции в развитие из-за общей неопределённости.
